05. SURFACE CHEMISTRY (HM)
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
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206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
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206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
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206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
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206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
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206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
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206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
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206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल