05. SURFACE CHEMISTRY (HM)
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल
NEET Test Series from KOTA - 10 Papers In MS WORD WhatsApp Here
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206983 किसी ठोस की सतह पर गैस का अधिशोषण गैस के दाब के साथ निम्न में से किस क्रम में बदलता है

1 तीव्र\( \to \)धीमा\( \to \)दाब से स्वतंत्र
2 धीमा\( \to \)तीव्र\( \to \) दाब से स्वतंत्र
3 दाब से स्वतंत्र\( \to \)तीव्र\( \to \)धीमा
4 दाब से स्वतंत्र\( \to \)धीमा\( \to \)तीव्र
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206984 रासायनिक अधिशोषण के लिये अनुपयुक्त कथन है

1 इसकी दर धीमी होती है
2 यह अनुत्क्रमणीय है
3 यह अत्यधिक विशिष्ट होता है
4 यह ताप पर निर्भर नहीं करता
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206985 "अधिशोषण" प्रक्रिया हमेशा होती है

1 ऊष्माशोषी
2 ऊष्माक्षेपी
3 \((a) \) अथवा  \( (b)\)
4 इनमें से कोई नहीं
05. SURFACE CHEMISTRY (HM)

206986 एक कोलॉइडी निकाय जिसमें अधिशोष्य ठोस अधिशोषक द्रव में है, वह कहलायेगा

1 एरोसॉल
2 सॉल
3 झाग
4 जैल