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06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207563 भर्जन प्रक्रिया में आवश्यक है

1 वायु की अनुपस्थिति

2 वायु की उपस्थिति

3 वायु की सीमित-मात्रा

4 इनमें से कोई नहीं

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207564 गालक का प्रयोग इसे हटाने में होता है

1 अम्लीय -अशुद्धियों को

2 क्षारीय -अशुद्धियों को

3 अयस्क की सभी अशुद्धियों को

4 (a) एवं (b) दोनों को

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207565 $F e$ के निष्कर्षण में प्राप्त धातुमल है

1

F e O

2

F e S i O_{3}

3

M g S i O_{3}

4

C a S i O_{3}

Explanation:

$F e$ के निष्कर्षण के दौरान कैल्शियम सिलिकेट $(C a S i O_{3})$ धातुमल प्राप्त होता है।

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207566 कॉपर के निष्कर्षण के दौरान बेसेमर परिवर्तक में होने वाली अन्तिम पद की अभिक्रिया है

1

4 C u_{2} O + F e S \to 8 C u + F e S O_{4}

2

C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}

3

2 C u_{2} O + F e S \to 4 C u + F e + S O_{2}

4

C u_{2} S + 2 F e O \to 2 C u + 2 F e C O + S O_{2}

Explanation:

बेसेमर परिवर्तक में कॉपर सल्फाइड, का क्यूप्रस ऑक्साइड में आंशिक ऑक्सीकरण होता है जो कि बचे हुए कॉपर सल्फाइड से कॉपर और सल्फर डाई ऑक्साइड निर्मित करने के लिये आगे की अभिक्रिया करता है;
$C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}$

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207563 भर्जन प्रक्रिया में आवश्यक है

1 वायु की अनुपस्थिति

2 वायु की उपस्थिति

3 वायु की सीमित-मात्रा

4 इनमें से कोई नहीं

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207564 गालक का प्रयोग इसे हटाने में होता है

1 अम्लीय -अशुद्धियों को

2 क्षारीय -अशुद्धियों को

3 अयस्क की सभी अशुद्धियों को

4 (a) एवं (b) दोनों को

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207565 $F e$ के निष्कर्षण में प्राप्त धातुमल है

1

F e O

2

F e S i O_{3}

3

M g S i O_{3}

4

C a S i O_{3}

Explanation:

$F e$ के निष्कर्षण के दौरान कैल्शियम सिलिकेट $(C a S i O_{3})$ धातुमल प्राप्त होता है।

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207566 कॉपर के निष्कर्षण के दौरान बेसेमर परिवर्तक में होने वाली अन्तिम पद की अभिक्रिया है

1

4 C u_{2} O + F e S \to 8 C u + F e S O_{4}

2

C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}

3

2 C u_{2} O + F e S \to 4 C u + F e + S O_{2}

4

C u_{2} S + 2 F e O \to 2 C u + 2 F e C O + S O_{2}

Explanation:

बेसेमर परिवर्तक में कॉपर सल्फाइड, का क्यूप्रस ऑक्साइड में आंशिक ऑक्सीकरण होता है जो कि बचे हुए कॉपर सल्फाइड से कॉपर और सल्फर डाई ऑक्साइड निर्मित करने के लिये आगे की अभिक्रिया करता है;
$C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}$

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207563 भर्जन प्रक्रिया में आवश्यक है

1 वायु की अनुपस्थिति

2 वायु की उपस्थिति

3 वायु की सीमित-मात्रा

4 इनमें से कोई नहीं

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207564 गालक का प्रयोग इसे हटाने में होता है

1 अम्लीय -अशुद्धियों को

2 क्षारीय -अशुद्धियों को

3 अयस्क की सभी अशुद्धियों को

4 (a) एवं (b) दोनों को

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207565 $F e$ के निष्कर्षण में प्राप्त धातुमल है

1

F e O

2

F e S i O_{3}

3

M g S i O_{3}

4

C a S i O_{3}

Explanation:

$F e$ के निष्कर्षण के दौरान कैल्शियम सिलिकेट $(C a S i O_{3})$ धातुमल प्राप्त होता है।

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207566 कॉपर के निष्कर्षण के दौरान बेसेमर परिवर्तक में होने वाली अन्तिम पद की अभिक्रिया है

1

4 C u_{2} O + F e S \to 8 C u + F e S O_{4}

2

C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}

3

2 C u_{2} O + F e S \to 4 C u + F e + S O_{2}

4

C u_{2} S + 2 F e O \to 2 C u + 2 F e C O + S O_{2}

Explanation:

बेसेमर परिवर्तक में कॉपर सल्फाइड, का क्यूप्रस ऑक्साइड में आंशिक ऑक्सीकरण होता है जो कि बचे हुए कॉपर सल्फाइड से कॉपर और सल्फर डाई ऑक्साइड निर्मित करने के लिये आगे की अभिक्रिया करता है;
$C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}$

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207563 भर्जन प्रक्रिया में आवश्यक है

1 वायु की अनुपस्थिति

2 वायु की उपस्थिति

3 वायु की सीमित-मात्रा

4 इनमें से कोई नहीं

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207564 गालक का प्रयोग इसे हटाने में होता है

1 अम्लीय -अशुद्धियों को

2 क्षारीय -अशुद्धियों को

3 अयस्क की सभी अशुद्धियों को

4 (a) एवं (b) दोनों को

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207565 $F e$ के निष्कर्षण में प्राप्त धातुमल है

1

F e O

2

F e S i O_{3}

3

M g S i O_{3}

4

C a S i O_{3}

Explanation:

$F e$ के निष्कर्षण के दौरान कैल्शियम सिलिकेट $(C a S i O_{3})$ धातुमल प्राप्त होता है।

06. GENERAL PRINCIPLES AND PROCESSES OF ISOLATION OF ELEMENTS (HM)

207566 कॉपर के निष्कर्षण के दौरान बेसेमर परिवर्तक में होने वाली अन्तिम पद की अभिक्रिया है

1

4 C u_{2} O + F e S \to 8 C u + F e S O_{4}

2

C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}

3

2 C u_{2} O + F e S \to 4 C u + F e + S O_{2}

4

C u_{2} S + 2 F e O \to 2 C u + 2 F e C O + S O_{2}

Explanation:

बेसेमर परिवर्तक में कॉपर सल्फाइड, का क्यूप्रस ऑक्साइड में आंशिक ऑक्सीकरण होता है जो कि बचे हुए कॉपर सल्फाइड से कॉपर और सल्फर डाई ऑक्साइड निर्मित करने के लिये आगे की अभिक्रिया करता है;
$C u_{2} S + 2 C u_{2} O \to 6 C u + S O_{2}$

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